据中国政府网发布的国务院令第842号，《集成电路布图设计保护条例》已经2026年7月10日国务院第91次常务会议修订通过，由国务院于7月23日公布，自2026年10月15日起施行。该条例原为2001年4月2日国务院令第300号公布，此次为修订后发布。

条例明确，集成电路是指以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品；对集成光子、量子等功能的集成电路布图设计，可以依照条例规定予以保护。布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生，未经登记的布图设计不受条例保护；保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准，但无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后不再受条例保护。

条例还就登记申请、初步审查、复审、撤销、专有权转让与许可、非自愿许可、侵权赔偿等作出规定，提出申请布图设计登记应当以真实创作活动为基础，不得弄虚作假；对故意侵犯布图设计专有权且情节严重的，可以按照确定数额的1倍以上5倍以下确定赔偿数额。

（中国能源网）